露光装置の基本

露光装置の進化

ピッチ、パターン（模様）のサイズが小さくになると違う性能の機械が必要です。Rayleigh Criterion:によると、波長が小さくなると、CD（最も小さい線の幅）が小さくなる。なぜこれを狙うのかは、トランジスタが小さくなると、一定の面積に入るチップ（トランジスタ）が増えるから。NAの方はレンズの分解能を示すパラメータです。NAが大きくなるとCDが小さくなれるです。

一例として、k１を０.２５に設定します。

CD = k1 λ / NA

上の方にピカピカ金属みたいなものはシリコンウエハーです。ウエハー表面にフォトレジストがあります。露光すると、ポリマーが光のパターンに応じて、変化します。これは別の機械で塗布します。今回の記事であまり説明しませんが、一言に言うと、トラックという機械、フォトレジストをウエハー上に塗布して、そこから、ロボットアームはトラックと露光装置の間にウエハーを移す。レチクル（フォトマスク）はパターンがあって、フォトマスクのグラスの透明部分に光が通過して、ウエハーに塗布したレジストを当てて、トラックに戻って、液体に使って、パターン（レチクルにあった模様）になります。露光装置には現在二つのタイプがあります。ステッパーの露光装置はステージだけが動きます。スキャナーに関して、ステップ・アンド・リピート・スキャナー、通称、スキャナーは光のビームも動きます。具体的にレンズが動く、それが光を操るものです。具体的な画像は下の通りです。同時にステージも動きます。下の方はステッパー（３６５n m）波長、露光装置です。

まずは光は水銀ランプから発生します。２番、ミーラーは特別な形をしていて、光は一定量に集中できるようにです。９番のように、様々光学的パーツを通じて、光が集中していく。その二つ目の目的はレチクル（フォトマスク）のパターンを数倍大きくにするためです。１０番はウエハーステージです。半導体工学のホームページに露光装置のステージの写真が載ってます。一つの質問はなぜレンズの数が非常に多いのか？焦点がぼけるとか収差（光が一点に集光できないという現象）、フィールドサイズの補正。

使用した情報源

使用した情報源はこちら：

https://semiengineering.com/fundamental-issues-in-computer-vision-still-unresolved/#comment-1240532

https://www.newport.com/#mz-expanded-view-1613154729694

https://en.wikipedia.org/wiki/Photomask#/media/File:Semiconductor_photomask.jpg

https://www.meetoptics.com/academy/ellipsoidal-mirrors#different-between-parabolic-and-ellipsoidal-mirrors

https://www.researchgate.net/figure/Lithographic-stepper-lens-070-NA-from-year-2000_fig10_258757425

https://www.edmundoptics.com/f/molded-diffuse-aspheric-condenser-lenses/39884/#

https://patents.google.com/patent/US7450312B2/en

http://www.lithoguru.com/scientist/litho_history/Lithographic_lens_history_and_evolution_Matsuyama_2006.pdf

https://www.dpreview.com/forums/post/54293927